Main menu

High resolution HLA genotyping with third-generation sequencing technology—a multicentre study

High resolution HLA genotyping with third-generation sequencing technology—a multicentre study
Return to ResourcesRead the full text
  • Published on: August 12 2024
  • Source: HLA Immune Response Genetics
Authors: Stéphane Buhler, Maja Nørgaard, Rudi Steffensen, Kirstine Kløve-Mogensen, Bjarne Kuno Møller, Rebecca Grossmann, Sylvie Ferrari-Lacraz, Claudia Lehmann

入门指南

购买 MinION 启动包 Nanopore 商城 测序服务提供商 全球代理商

联系我们

知识产权 Cookie 政策 企业报告 隐私政策 条件条款 前瞻性陈述

关于 Oxford Nanopore

联系我们 领导团队 媒体资源和联系方式 投资者 在 Oxford Nanopore 工作 BSI 27001 accreditationBSI 90001 accreditationBSI mark of trust

沪ICP备20017565号 © 2008 - 2023 Oxford Nanopore Technologies plc。版权所有。注册办公室：Gosling Building, Edmund Halley Road, Oxford Science Park, OX4 4DQ, UK（英国）注册号 05386273 增值税号 336942382。Oxford Nanopore Technologies、风轮图标、EPI2ME、Flongle、GridION、Metrichor、MinION、MinIT、MinKNOW、Plongle、 PromethION、SmidgION、Ubik 和 VolTRAX 是 Oxford Nanopore Technologies plc 在 不同国家的注册商标。Oxford Nanopore Technologies 产品并非旨在用于健康评估或 诊断、治疗、缓解、治愈或预防任何疾病或状况。

Chinese flag